- (新)第22集 8.2 薄膜形貌及结构表征
- (新)第21集 8.1 薄膜厚度测试
- (新)第20集 7.2 薄膜成核理论
- 第19集 7.1 薄膜的生长过程
- 第18集 6.2 阳极氧化、电镀、化学镀
- 第17集 6.1 溶胶凝胶法和LB膜
- 第16集 5.3 CVD装置及类型
- 第15集 5.2 CVD的化学反应法则
- 第14集 5.1 CVD的化学反应类型
- 第13集 4.4 射频溅射与磁控溅射
- 第12集 4.3 溅射过程
- 第11集 4.2 溅射特性
- 第10集 4.1 溅射与等离子体
- 第9集 3.3 蒸发方法简介
- 第8集 3.2 蒸发的膜厚分布
- 第7集 3.1 蒸发的基本概念
- 第6集 2.4 真空的测量
- 第5集 2.3 真空的获得
- 第4集 2.2 稀薄气体的基本性质
- 第3集 2.1 真空
- 第2集 1.2 薄膜的制备方法及应用
- 第1集 1.1 薄膜的定义
《薄膜物理与技术》的开设旨在引导学生了解电子薄膜技术的发展概况，理解真空技术的相关知识，掌握薄膜沉积的技术体系以及薄膜制备的多种技术方法，能够在薄膜沉积中综合考虑工艺参数对薄膜附着力、厚度均匀性、结构以及缺陷的影响，并初步掌握薄膜结构表征的方法。
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《薄膜物理与技术》的开设旨在引导学生了解电子薄膜技术的发展概况，理解真空技术的相关知识，掌握薄膜沉积的技术体系以及薄膜制备的多种技术方法，能够在薄膜沉积中综合考虑工艺参数对薄膜附着力、厚度均匀性、结构以及缺陷的影响，并初步掌握薄膜结构表征的方法。
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